【0029】図8は電着修正キャリアの単位時間当たりの修正加工量を検討したものであり、図10に示す従来の円形修正キャリアと粒度#140〜170のダイヤモンド砥粒を電着した円形修正キャリアと??
図8は、従来のラップ定盤でのラップ加工時のスラリーの流れを説明する模式図である。図8に示すように、従来のラップ定盤のラップ加工面51bには、幅w 1 、深さd 1 及びピッチp 1 の角型の溝5
平面の磨きには図4-7のようにラップ定盤を固定して行なう方法と図4-8のようにラッププレートを回転させて行なう方法とがあります。 図 4-7 ラップ定盤による平面の磨き. 図4-8 ラッププレー
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